KURAGE online | 中国 の情報 > 役員昇進に脱落すると…中国に韓国の半導体コア技術を流出した韓国人 - 中央日報 投稿日:2023年1月27日 26日、特許庁技術デザイン特別司法警察(技術警察)と大田(テジョン)地検は半導体のウェハー研磨(CMP)関連技術を中国に流出した疑い(産業技術保護法関連キーワードはありません 続きを確認する